面對美國主導的高端技術限制,中國企業正在擴大舊款芯片的生產,這引發了西方對長期供應過剩的擔憂。然而,自今年四月上任的光刻機巨頭ASML CEO克里斯托夫·富凯(Christophe Fouquet)認為:“全球對此類芯片的需求正在急劇上升,儘管這些芯片的利潤不高,且西方公司投資不足。”“歐洲甚至無法滿足自身需求的一半。”
富凯在這次訪談中強調了這一觀點,並探討了下一代EUV光刻機等更多技術話題。我們以下將他的主要觀點進行翻譯,以饗讀者。
自今年四月底起,這位土生土長的法國人開始擔任ASML的首席執行官,掌管這家歐洲最具價值的科技公司。ASML是全球唯一能夠生產最先進半導體技術的企業,這意味著沒有ASML,就無法生產AI芯片。
然而,這位50歲的CEO肩負著高度政治化的工作:美國正推動對中國實施更嚴格的芯片出口限制,禁止更多芯片製造設備出口至中國。迄今為止,制裁僅影響到使用昂貴特殊芯片的機器,富凯表示,阻止中國生產西方急需的芯片並非明智之舉。
在訪談中,富凯直言,西方公司對簡單、成熟的芯片投資不足,這類芯片的需求正在急劇增加,但歐洲自身無法滿足需求。因此,中國正在建造這些芯片的工廠。
在談及更深遠的出口管制時,富凯表示,若各國希望阻止中國的芯片生產,應該先建立自己的替代生產設施。否則,當我們仍然依賴中國的芯片生產時,進一步的出口限制將會事與願違。
至於EUV光刻機技術,富凯透露,ASML已在研發下一代Hyper NA EUV系統,並認為這項技術將成為未來十年半導體行業的關鍵。
富凯表示,儘管ASML的EUV系統價格不斷上升,但這並未影響客戶的需求,因為這些先進系統對生產高性能芯片至關重要。展望未來,他相信Hyper NA技術將在未來十年內實現重大突破,並將為半導體行業帶來更多創新機會。
總結來看,ASML在EUV技術領域的領先地位無可撼動,而隨著Hyper NA技術的逐步推進,該公司將在未來繼續引領全球半導體製造的變革。