面對美國主導的高端技術限制，中國企業正在擴大舊款芯片的生產，這引發了西方對長期供應過剩的擔憂。然而，自今年四月上任的光刻機巨頭ASML CEO克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）認為：“全球對此類芯片的需求正在急劇上升，儘管這些芯片的利潤不高，且西方公司投資不足。”“歐洲甚至無法滿足自身需求的一半。”
富凯在這次訪談中強調了這一觀點，並探討了下一代EUV光刻機等更多技術話題。我們以下將他的主要觀點進行翻譯，以饗讀者。
自今年四月底起，這位土生土長的法國人開始擔任ASML的首席執行官，掌管這家歐洲最具價值的科技公司。ASML是全球唯一能夠生產最先進半導體技術的企業，這意味著沒有ASML，就無法生產AI芯片。
然而，這位50歲的CEO肩負著高度政治化的工作：美國正推動對中國實施更嚴格的芯片出口限制，禁止更多芯片製造設備出口至中國。迄今為止，制裁僅影響到使用昂貴特殊芯片的機器，富凯表示，阻止中國生產西方急需的芯片並非明智之舉。
在訪談中，富凯直言，西方公司對簡單、成熟的芯片投資不足，這類芯片的需求正在急劇增加，但歐洲自身無法滿足需求。因此，中國正在建造這些芯片的工廠。
在談及更深遠的出口管制時，富凯表示，若各國希望阻止中國的芯片生產，應該先建立自己的替代生產設施。否則，當我們仍然依賴中國的芯片生產時，進一步的出口限制將會事與願違。
至於EUV光刻機技術，富凯透露，ASML已在研發下一代Hyper NA EUV系統，並認為這項技術將成為未來十年半導體行業的關鍵。
富凯表示，儘管ASML的EUV系統價格不斷上升，但這並未影響客戶的需求，因為這些先進系統對生產高性能芯片至關重要。展望未來，他相信Hyper NA技術將在未來十年內實現重大突破，並將為半導體行業帶來更多創新機會。
總結來看，ASML在EUV技術領域的領先地位無可撼動，而隨著Hyper NA技術的逐步推進，該公司將在未來繼續引領全球半導體製造的變革。
